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本文標題:硅氧烷涂層和在紙中涂覆樣品檢測顯微鏡

信息分類:行業動態 新聞來源:未知 發布時間:2017-10-3 23:31:36
硅氧烷涂層和在紙中涂覆樣品檢測顯微

    為了確保達到最佳激發,如果用途不同寸,采用不同的放射性
同位素很有必要。對硅氧烷涂層和在紙中的二氧化鈦,采用鐵—55
(Fe—55)源-因為鐵—55的X射線比較柔和(低能量),不會在試樣中
穿越很遠。而對于在膜上的銀,則采用能量更高的镅—241源。
    將試樣放置在距離輻射源僅幾毫米處,以達到比較高的靈敏度
。試樣距激發源越近,對試樣的輻射越有效。低能X射線(如硅元素
的X射線)很容易被環境吸收,應當進行氦凈化。必要時,選擇最佳
輻射和氦凈化,大多數試樣的計量時間一般在2nfin之內。

    可以將不同元素和材料的校準曲線直接存儲在儀器中以備調用
。校準曲線是通過測試一套已知試樣或同一材料的標準試樣建立起
來的,因為XFR是一項比較技術,所以,后續的分析工作與所使用
的校準曲線的精確度有關:

    整體累積強度實際上是被分析元素和背景材料信號的合并,背
景強度可以隨著材料的厚度或基礎質量變化。可以通過測試未涂覆
或空白試樣測定其中的差別,測定結果將自動合并到校準曲線。

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本文出自上海永亨光學儀器有限公司,本文地址:http://www.sztecrb.cn/xwjdt/2488.html  
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